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隨著美國政府聯(lián)手其他國家收緊出口管制政策，中國企業(yè)進口光刻機等半導體設備正面臨越來越大的困難。

當?shù)貢r間9月5日，美國商務部下屬的工業(yè)與安全局（BIS）發(fā)布公告，出于“國家安全和外交政策”的考慮，更新量子計算、半導體制造和其他先進技術的管制政策清單，共計133頁，這進一步加強了美國對華量子計算、半導體制造等科技出口限制，涉及量子計算機及其相關設備、先進半導體設備必需的工具和設備、GAAFET（3nm及以內(nèi)芯片制造工藝）技術以及增材制造項目等。

BIS表示，此份文件規(guī)則自2024年9月6日起生效。

美國BIS副局長艾倫·埃斯特維茲（Alan Estevez）表示，此次行動確保美國出口管制與快速發(fā)展的技術保持同步，也確保了美國與國際伙伴合作時，出口管制更加有效。

隨后，荷蘭政府也“對齊”美國出口管制政策，實施所有的光刻機出口審批。9月6日，荷蘭光刻機龍頭ASML（阿斯麥）對鈦媒體App展示一份聲明中回應：

“荷蘭政府于今日發(fā)布了有關浸潤式 DUV（深紫外）光刻設備出口的最新許可證要求。ASML認為，這項新要求將使出口許可證的發(fā)放方式更協(xié)調(diào)統(tǒng)一。根據(jù)更新后的許可證發(fā)放要求以及美國《出口管理條例》第734部分的第4.(a).(3)節(jié)的規(guī)定，ASML將需要向荷蘭政府而非美國政府申請 TWINSCAN NXT:1970i 和 1980i 型號浸潤式DUV光刻系統(tǒng)的出口許可證。之前，荷蘭政府已經(jīng)開始對 TWINSCAN NXT:2000i 及后續(xù)推出的浸潤式光刻系統(tǒng)實施出口許可證要求。ASML EUV 光刻系統(tǒng)的銷售也受到出口許可證要求的限制。荷蘭政府公布的最新許可證要求將于 2024 年 9 月 7 日生效。由于這是一項流程性變更，ASML預計該公告不會對我們 2024 年的業(yè)績預期或 2022 年 11 月投資者日上公布的公司長期前景產(chǎn)生重大影響?！?/span>

換句話說，未來，如果由美國政府和荷蘭政府共同審批的話，ASML的先進EUV（極紫外）、部分DUV光刻機設備都不太可能向中國銷售了。

針對上述消息，中國外交部發(fā)言人毛寧9月6日表示，中方一貫反對美國將經(jīng)貿(mào)科技問題政治化、武器化。我們認為，對正常的技術合作和經(jīng)貿(mào)往來人為地設置障礙，違反市場經(jīng)濟原則，擾亂全球產(chǎn)供鏈穩(wěn)定，不符合任何一方的利益。

9月8日，中國商務部新聞發(fā)言人就此表示，中方注意到相關情況。近來，中荷雙方就半導體出口管制問題開展了多層級、多頻次的溝通磋商。荷方在2023年半導體出口管制措施的基礎上，進一步擴大對光刻機的管制范圍，中方對此表示不滿。近年來，美國為維護自身全球霸權，不斷泛化國家安全概念，脅迫個別國家加嚴半導體及設備出口管制措施，嚴重威脅全球半導體產(chǎn)業(yè)鏈供應鏈穩(wěn)定，嚴重損害相關國家和企業(yè)正當權益，中方對此堅決反對。荷方應從維護國際經(jīng)貿(mào)規(guī)則及中荷經(jīng)貿(mào)合作大局出發(fā)，尊重市場原則和契約精神，避免有關措施阻礙兩國半導體行業(yè)正常合作和發(fā)展，不濫用出口管制措施，切實維護中荷企業(yè)和雙方共同利益，維護全球半導體產(chǎn)業(yè)鏈供應鏈穩(wěn)定。

再加碼！美國政府不僅更新管制新規(guī)，還讓荷蘭“對齊”出口限制

原本預期在10月美國BIS更新的 AI 半導體出口管制規(guī)定，突然提前一個多月快速落地實施。

9月5日，美國商務部BIS更新出口管制規(guī)定，加緊對量子計算和半導體制造設備等關鍵技術的出口管制。美國商務部表示，該部正在全球范圍內(nèi)對量子計算機和制造先進半導體設備所需的機器等特定類型的產(chǎn)品實施出口限制，但是對日本等采取類似措施的國家例外。

BIS在“商務管制清單”文件中增加和修訂了出口管制物項的分類編號 (ECCNs)，對半導體制造設備、量子計算機技術及其相關設備、增材制造設備、GAAFET技術、量子計算特定材料和電子組件、以及軟件和特定半導體制造與量子計算設備開發(fā)的技術，相關物項均進行全球范圍內(nèi)的出口管制。

根據(jù)文件，涉及物項包括2B910（增材制造設備），2D910（增材制造設備的“軟件”），3A901（電子組件），3A904（低溫冷卻系統(tǒng)）、3B001（半導體制造設備），3B903（掃描電子顯微鏡），3B904（低溫晶圓探測設備），3C907、3C908、3C909（特定材料），3D901、3D907（量子計算相關的“軟件”），3E901、3E905（量子計算和GAAFET技術的“技術”），4A906（量子計算機及相關組件），4D906（量子計算機相關組件的“軟件”）。4E906（量子計算機相關組件的“技術”），這些都會納入新的BIS審批獲準當中。

同時，BIS 還新增了 “國家安全” 和 “地區(qū)穩(wěn)定” 兩項全球許可證要求，從美國出口這些物項到全球所有國家都需要向美國申請許可。具體來說，對參加了瓦森納出口管制協(xié)定國家，原則上允許出口，而對美國指定的 “國家安全” 相關國家或 “武器禁運國家”，例如中國，則是假定拒絕出口，對于其他國家，則是一事一議的原則。

進一步，BIS 為 “志同道合” 的國家提供了豁免，即 “許可證豁免的出口管制”(IEC) 機制，各國如果實施和美國等效的出口管制，滿足了 IEC 的要求，那么美國將豁免對這些國家的出口許可要求。目前，意大利、英國、澳大利亞、加拿大、日本、西班牙、法國和德國等8個國家的20個物項將有特別的許可豁免權。

值得注意的是BIS文件中提到關于GAAFET（全環(huán)柵晶體管）部分，這將影響國內(nèi) GPU/AI 芯片研發(fā)和量產(chǎn)。

事實上，GAAFET是一種先進半導體制造技術，用于制造更小、更高效的晶體管，目前大體可以制造4nm、3nm、2nm以及1nm芯片產(chǎn)品。當前涉及此技術的上中游產(chǎn)業(yè)鏈主要包括全球兩大晶圓代工龍頭（三星、臺積電），三大EDA龍頭（Synopsys新思科技、Cadence楷登科技、以及西門子EDA），這些公司均掌握此技術，而蘋果、英偉達等企業(yè)都正在量產(chǎn)基于GAAFET的芯片。而文件中指出，BIS正在對涉及GAAFET技術的某些項目實施出口控制，以保護國家安全和外交政策利益。

不僅更新了管制新規(guī)，同一時間，美國政府還讓荷蘭“對齊”出口限制。

9月6日，荷蘭政府發(fā)布有關浸潤式 DUV光刻設備出口的最新許可證要求，主要涉及荷蘭光刻機龍頭ASML的產(chǎn)品，預計該限令將于9月7日生效。

對此，荷蘭貿(mào)易部長雷內(nèi)特·克萊弗（Reinette Klever)表示：“這一決定是為了我們的安全。我們認為，由于技術的進步，這些特定生產(chǎn)設備的出口存在更多的安全風險，尤其是在當前地緣政治環(huán)境的背景之下?！?/span>

此前，荷蘭首相肖夫（Dick Schoof）表示，荷蘭政府在決定進一步收緊ASML設備對華出口規(guī)則時，將考慮到該公司的經(jīng)濟利益。

“我們正在進行談判，良好的談判，我們也在特別關注ASML的經(jīng)濟利益，這些利益需要與其他風險進行權衡，而經(jīng)濟利益是極其重要的”。肖夫補充說，“對荷蘭來說，ASML是一個極其重要的創(chuàng)新企業(yè)，在任何情況下都不應受到影響，因為這將損害ASML的全球地位”。

知情人士稱，肖夫領導的荷蘭政府很可能不會在ASML某些在華維修和提供備件的許可證于2024年底到期后為其續(xù)期，預計將涉及ASML的頂級DUV（深紫外）光刻機。對此肖夫不予置評。

實際上，在美國的壓力下，荷蘭政府從未允許ASML向中國客戶出口其最先進的EUV設備，并從2023年9月開始要求NXT:2000系列及更好的DUV設備需要出口許可。2023年10月，美國單方面開始限制ASML 1970i和1980i工具的出貨。

ASML已警告中國客戶，從2024年起不預期再交付這些設備。

據(jù)財新，金杜律師事務所合規(guī)業(yè)務部貿(mào)易法合伙人戴夢皓表示，美國新增的這批全球管制物項在之前幾輪對中國的管制中已經(jīng)基本覆蓋到了，因此本次美國的新政策對中國產(chǎn)業(yè)的新影響不大。但是，這樣的新規(guī)利于美國未來進一步收緊出口管制，對日本和荷蘭等半導體材料和設備生產(chǎn)國施加更大壓力。

總結看，此次BIS文件主要涉及量子計算的全產(chǎn)業(yè)鏈體系，也就是美國政府希望全面限制中國發(fā)展量子計算技術，同時，通過與荷蘭、日本“對齊”出口管制方式，美國芯片產(chǎn)業(yè)鏈全面斷絕中國獲取海外先進制程芯片所需的設備、材料等。

一位EDA行業(yè)人士向鈦媒體App透露，目前EDA三巨頭已經(jīng)限制國內(nèi)設計企業(yè)的GAAFET IP和EDA軟件采購，因此，此輪管制對于國內(nèi)EDA方面影響有限，但長期來看，中國企業(yè)很難再擁有研發(fā)先進制程芯片的EDA軟件。

“我們本來就對放寬半導體出口沒什么期待了?！鄙鲜鋈耸糠Q。

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